ZnGeP2 — насыщенная инфракрасная нелинейная оптика
Описание продукта
Благодаря этим уникальным свойствам он считается одним из самых перспективных материалов для нелинейно-оптических приложений. ZnGeP2 способен генерировать непрерывно перестраиваемый лазер с длиной волны 3–5 мкм благодаря технологии оптической параметрической генерации (ОПГ). Лазеры, работающие в диапазоне пропускания атмосферы 3–5 мкм, имеют большое значение для многих приложений, таких как инфракрасные контрмеры, химический мониторинг, медицинская аппаратура и дистанционное зондирование.
Мы можем предложить высококачественный оптический ZnGeP2 с чрезвычайно низким коэффициентом поглощения α < 0,05 см-1 (на длинах волн накачки 2,0-2,1 мкм), который может использоваться для генерации перестраиваемого лазера среднего инфракрасного диапазона с высокой эффективностью с помощью процессов OPO или OPA.
Наши возможности
Разработана и применена технология динамического температурного поля для синтеза поликристаллического ZnGeP2. Благодаря этой технологии за один цикл синтезировано более 500 г поликристаллического ZnGeP2 высокой чистоты с крупными зернами.
Метод горизонтального градиентного замораживания в сочетании с технологией направленного образования шейки (которая позволяет эффективно снизить плотность дислокаций) успешно применяется для выращивания высококачественного ZnGeP2.
Методом вертикального градиентного замораживания был успешно выращен высококачественный кристалл ZnGeP2 весом в килограммы и с самым большим в мире диаметром (Φ55 мм).
Шероховатость поверхности и плоскостность кристаллических устройств, составляющие менее 5Å и 1/8λ соответственно, были получены с помощью нашей технологии тонкой поверхностной обработки.
Конечное угловое отклонение кристаллических устройств составляет менее 0,1 градуса за счет применения точных методов ориентации и резки.
Превосходные характеристики устройств были достигнуты благодаря высокому качеству кристаллов и передовой технологии обработки кристаллов (был создан перестраиваемый лазер среднего инфракрасного диапазона 3-5 мкм с эффективностью преобразования более 56% при накачке источником света 2 мкм).
Наша исследовательская группа, благодаря постоянным исследованиям и техническим инновациям, успешно освоила технологию синтеза высокочистого поликристаллического ZnGeP2, технологию выращивания крупногабаритных и высококачественных кристаллов ZnGeP2, а также технологию ориентации кристаллов и высокоточной обработки. Мы можем производить устройства ZnGeP2 и оригинальные кристаллы, выращенные в больших масштабах, с высокой однородностью, низким коэффициентом поглощения, хорошей стабильностью и высокой эффективностью преобразования. Кроме того, мы создали комплексную платформу для тестирования характеристик кристаллов, что позволяет нам предоставлять клиентам услуги по тестированию характеристик кристаллов.
Приложения
● Генерация второй, третьей и четвертой гармоник CO2-лазера
● Оптическая параметрическая генерация с накачкой на длине волны 2,0 мкм
● Генерация второй гармоники CO-лазера
● Создание когерентного излучения в субмиллиметровом диапазоне от 70,0 мкм до 1000 мкм
● Генерация совмещенных частот излучения СО2- и СО-лазеров и других лазеров, работающих в области прозрачности кристалла.
Основные свойства
Химический | ZnGeP2 |
Симметрия и класс кристалла | тетрагональный, -42м |
Параметры решетки | а = 5,467 Å с = 12,736 Å |
Плотность | 4,162 г/см3 |
Твердость по шкале Мооса | 5.5 |
Оптический класс | Положительный одноосный |
Полезный диапазон передачи | 2,0 мкм - 10,0 мкм |
Теплопроводность при Т= 293 К | 35 Вт/м∙К (⊥c) 36 Вт/м∙К ( ∥ c) |
Тепловое расширение при T = 293 К - 573 К | 17,5 x 106 K-1 (⊥c) 15,9 x 106 K-1 ( ∥ c) |
Технические параметры
Допуск диаметра | +0/-0,1 мм |
Допуск по длине | ±0,1 мм |
Допуск ориентации | <30 угловых минут |
Качество поверхности | 20-10 СД |
Плоскостность | <λ/4@632.8 nm |
Параллелизм | <30 угловых секунд |
Перпендикулярность | <5 угловых минут |
Фаска | <0,1 мм x 45° |
Диапазон прозрачности | 0,75 - 12,0 мкм |
Нелинейные коэффициенты | d36 = 68,9 пм/В (при 10,6 мкм) d36 = 75,0 пм/В (при 9,6 мкм) |
Порог повреждения | 60 MW/cm2 ,150ns@10.6μm |

